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中微3nm蚀刻机与芯片光刻机区别

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  • 这就是蚀刻机和光刻机之间的区别了

    最简单的区别就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀,这就是这光刻和蚀刻的难度。

    光刻的过程就是现在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶,接下来通过光线透过掩膜照射到硅圆表面,因为光刻胶的覆盖,照射到的部分被腐蚀掉,没有光照的部分被留下来,这部分便是需要的电路结构。

    蚀刻则是电路结构了,干刻目前还没有实现商业量产,其原理是通过等离子体代替化学溶液,去除不需要的硅圆部分。

    2023-10-24 12:49:44
  • 区别在于蚀刻与光刻,蚀刻是需要蚀刻剂,蚀刻剂就一种腐蚀剂,光刻就是用激光烧刻。

    2023-10-24 12:49:44
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