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28nm浸没式duv光刻机能生产几纳米

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  • 28nm浸没式DUV光刻机是指使用28纳米工艺节点的浸没式深紫外光刻技术。它可以实现28纳米及以上的芯片制造。浸没式光刻技术通过在光刻过程中使用液体介质,可以提高分辨率和图案的精度。虽然目前已经有更先进的光刻技术出现,但28nm浸没式DUV光刻机仍然可以用于生产一些低功耗、低成本的芯片,如物联网设备、嵌入式系统等。

    2023-10-24 14:23:16
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