包括下列内容：
1.复制权。实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。
2.商业利用权。是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
【法律依据】
《集成电路布图设计保护条例》第七条
布图设计权利人享有下列专有权：
(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;
(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
包括下列内容：
1.复制权。实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。
2.商业利用权。是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
《集成电路布图设计保护条例》第七条
布图设计权利人享有下列专有权：
(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;
(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
