光刻胶是光刻工艺中使用的最关键的材料，多层光刻胶指在衬底上涂敷的光刻胶分成多层，然后使用该光刻胶进行曝光。
多层光刻胶是针对单层光刻胶光刻工艺中所存在的一些缺点而发展起来的，使用多层光刻胶工艺进行光刻可以得到较好的分辨率并且光刻后光刻胶的侧面陡直，截面形状近似为矩形。
在多层光刻胶中最常用的是三层光刻胶，其包括上层光刻胶层、中间介质层及下层光刻胶层，如图1所示。光刻胶是光刻工艺中使用的最关键的材料，多层光刻胶指在衬底上涂敷的光刻胶分成多层，然后使用该光刻胶进行曝光。
多层光刻胶是针对单层光刻胶光刻工艺中所存在的一些缺点而发展起来的，使用多层光刻胶工艺进行光刻可以得到较好的分辨率并且光刻后光刻胶的侧面陡直，截面形状近似为矩形。
在多层光刻胶中最常用的是三层光刻胶，其包括上层光刻胶层、中间介质层及下层光刻胶层，如图1所示。
