最小曝光量，完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
最小曝光量详细介绍
最小曝光量，完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
minimum exposure energy
参见：曝光量
最小曝光量，完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
最小曝光量，完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
minimum exposure energy
参见：曝光量
