衬底支撑组件在处理室中支撑衬底。所述的衬底支撑组件具有：支撑块，所述支撑块具有电极；以及臂，用于在所述处理室中支持所述的支撑块，所述的臂具有贯穿其中的通道。
衬底支撑组件详细介绍
衬底支撑组件在处理室中支撑衬底。所述的衬底支撑组件具有：支撑块，所述支撑块具有电极；以及臂，用于在所述处理室中支持所述的支撑块，所述的臂具有贯穿其中的通道。
所述的臂具有固定到所述支撑块的第一夹板以及固定到所述处理室的第二夹板。多个电导体穿过所述臂的所述通道，而陶瓷绝缘体处在所述的导体之间。
衬底支撑组件在处理室中支撑衬底。所述的衬底支撑组件具有：支撑块，所述支撑块具有电极；以及臂，用于在所述处理室中支持所述的支撑块，所述的臂具有贯穿其中的通道。
衬底支撑组件在处理室中支撑衬底。所述的衬底支撑组件具有：支撑块，所述支撑块具有电极；以及臂，用于在所述处理室中支持所述的支撑块，所述的臂具有贯穿其中的通道。
所述的臂具有固定到所述支撑块的第一夹板以及固定到所述处理室的第二夹板。多个电导体穿过所述臂的所述通道，而陶瓷绝缘体处在所述的导体之间。
